发布网友 发布时间:2022-04-23 17:29
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热心网友 时间:2023-07-08 20:27
SiCl4+2H2=高温=Si+4HCl 工业产硅步(1)氢气与四氯化硅高温条件反应化程式:SiCl4+2H2高温 Si+4HCl.故填:SiCl4+2H2高温 Si+4HCl.(2)两钠离表示2Na+;两水表示2H2O; 四硫酸根离表示4SO42-.故填:2Na+;2H2O;4SO42-.