专利名称：基板清洗装置专利类型：实用新型专利发明人：秦纬,左远洋
申请号：CN201120329820.7申请日：20110905公开号：CN202196758U公开日：20120418
摘要：本实用新型实施例公开了一种基板清洗装置，涉及液晶显示器制造领域，解决了由于基板上的颗粒的自身重力及与基板的黏附力引起的摩擦力阻碍颗粒运动，造成基板从清洗舱清洗后，基板上仍然残留有颗粒的问题。本实用新型实施例提供的基板清洗装置，包括清洗舱，贯穿所述清洗舱且位于所述清洗舱上方的传送单元，以及设置在所述清洗舱内部且位于所述清洗舱底部的清洗单元，所述清洗单元的清洗口朝向所述传送单元。本实用新型可以应用在液晶显示器制造领域中，如TFT阵列基板的制造。
申请人：北京京东方光电科技有限公司
地址：100176 北京市经济技术开发区西环中路8号
国籍：CN
代理机构：北京中博世达专利商标代理有限公司
代理人：申健
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