专利名称：防护盖专利类型：发明专利发明人：袁朝煜
申请号：CN201710939111.2申请日：20170930公开号：CN107755393A公开日：20180306
摘要：本发明提供了一种防护盖，用于防护基板上的电路板组件，所述防护盖包括吸附件，所述吸附件具有吸附面，所述吸附件内设有气体流道，所述气体流道具有入口和出口，所述出口位于所述吸附面，所述入口位于所述吸附件上除所述吸附面之外的表面,所述入口用于连接气源；所述吸附面设有由柔性材料制成的吸附膜，所述吸附膜上开设有通孔，所述通孔与所述出口对接，所述通孔用于使得所述气体流道与所述基板表面相通，所述吸附膜用于吸附在所述基板上，以使所述防护盖遮盖所述电路板组件。本发明提的防护盖能够对基板上的电路板组件进行有效防护。
申请人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
地址：430070 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室
国籍：CN
代理机构：广州三环专利商标代理有限公司
更多信息请下载全文后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容