专利名称：一种可探测热熔片的加热头及加热器专利类型：实用新型专利发明人：高雄
申请号：CN201721250967.0申请日：20170927公开号：CN208063499U公开日：20181106
摘要：本实用新型公开了一种可探测热熔片的加热头，所述加热头配置有热熔片探测器。所述热熔片探测器是金属探测器。所述金属探测器是电磁感应型金属探测器，X射线检测型金属探测器，超声波检测型金属探测器。所述热熔片探测器的形状呈柱状。所述热熔片探测器的数量至少有一个。所述热熔片探测器的数量有四个。四个所述热熔片探测器分布在所述加热头的侧面。四个所述热熔片探测器的分布形状呈矩形。所述热熔片探测器探测头通过固定架与所述加热头固定连接。所述热熔片探测器探测头的朝向与所述加热头的朝向相同。加热器包括加热头，加热头是前面所述的可探测热熔片的加热头。本实用新型容易找准热熔片的正确位置，避免造成漏焊、假焊、偏焊。
申请人：高雄
地址：528000 广东省佛山市南海大沥黄岐镇海北大道一号沙面新城蓝城阁
国籍：CN
代理机构：北京盈天科地知识产权代理有限公司
代理人：尹莹莹
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